반도체 장비관련 용어

반도체 장비관련 용어 1.Bulk gas (N2,He,Ar,O2) Clean Room 에서 가장 많이 사용되는 General Gas로서 각종 생산장비 및 보조장비를 운전하기 위한 구동용으로 사용하거나 생산장비내의 잔여 Gas 및 Hume을 제거하기 위해 사용 된다. 또한 사용규모에 따라서 제조장치를 공장내에 설치하는 경우와 Gas 생산업체로부터 Liquid 상태의 Gas를 공급 받아 기화 시켜 사용하는 경우와 고압 Gas인상태로 입고되어 압력을 조절하여 사용하는 경우도 있다. 필요에 따라 고순도 Gas가 요구되는 경우가 있는데 이 때는 별도의 Filter, Purifier를 설치하여 생산라인에 공급하기도 한다. 2.Specialty Process gas (SIH4,NH3,….) 각종 반도체 주요 공정에서..
배관/정보 2020. 12. 14. 02:59
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